シーバイエス株式会社

令和5年11月16日（木）～17日（金）に東京ビックサイトで開催された「第52回　日本医療福祉設備学会学術集会」の一般演題でマイクロファイバーによる清拭とムーンビーム３を用いた紫外線照射による微生物の除去に関する研究成果を口頭発表しました。

演題「清拭作業と紫外線照射によるノータッチ消毒による消毒作業の検討」

人が触れる病室内のベッド周辺、床頭台、機器のボタンやスイッチ等の環境表面は、様々な微生物が生存し、消毒作業により微生物を減少させる事は感染制御において重要です。今回、清拭作業のクロスによる除菌効果とムーンビーム３を用いた紫外線（UV-C）照射による消毒効果について検証を行い、環境表面の効果的な消毒作業について検討しました。併せて、UV-C照射時の紫外線量を、紫外線積算光量計とインジケーターを用いて確認しました。

検討の結果、マイクロファイバークロスを用いた清拭作業とムーンビーム３によるUV-C照射を併用する事で、それぞれ単独で使用するよりも高い消毒効果が得られました。

また、紫外線量の測定とインジケーターの色を色差計で測定することで、作業効果の数値化が可能であると考えます。ムーンビーム３はUV-Cランプのアームを動かすことで照射条件の調整が可能であり、紫外線量の数値やインジケーターを利用することで、対象面に最適なムーンビーム３の設置位置とUV-Cランプの照射高さや角度の条件選定に有効であると考えます。